著者
山下 智也
株式会社テクノロジックアート

2002年 株式会社テクノロジックアートに入社。Webアプリケーションおよびフレームワーク開発やアジャイル開発を経験し、現在は各種のパターンに関するトレーニ ング講師も務める。人間的にも技術的にも立派なアーキテクトを目指して日々の精進を心がけている。著書に『独習デザインパターン』(共著/翔泳社)、 『Eclipse3 + UML2.0による実践ソフトウェア開発』(監修/秀和システム)がある。
http://www.tech-arts.co.jp/

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